Doi T., Ichinose A., Kitamura N., Kusunoki T., Iwanaka T., Kawayama I., Kambe H.
Ключевые слова: MgB2, thin films, annealing process, fabrication, electron beam evaporation, substrate Si, substrate single crystal, protection layers, X-ray diffraction, microstructure, resistive transition, critical caracteristics, Jc/B curves, experimental results
Applied Physics Express, 2021, v.14, N 2, p.25504
Полный текст на Sci-Hub
Дополнительная информация
© Copyright 2006-2012. Использование материалов сайта возможно только с обязательной ссылкой на сайт.Свои замечания и пожелания вы можете направлять по адресу perst@isssph.kiae.ruТехническая поддержка Alexey, дизайн Teodor.